目录

 

【摘要】 1

【关键词】 1

1 引言 2

1.1氧化物电子材料 2

1.2钙钛矿材料 2

1.3 BaFeO3钙钛矿薄膜材料 2

1.4 研究目的 4

2 实验 5

2.1 脉冲激光沉积(PLD，Pulsed Laser Deposition)工作概述 5

2.1.1靶材在激光作用下产生等离子体 5

2.1.2等离子体从靶材转移至基片 6

2.1.3基片表面形成薄膜 6

2.2 脉冲激光沉积的特点 6

2.3脉冲激光沉积实验流程 7

2.4样品的生长条件选择 7

2.4.1靶材和基材之间距离 7

2.4.2衬底的温度 8

2.4.3实验腔体中氧压 8

2.4.4激光强度和脉冲激光发数 8

3 表征手段 8

3.1 X射线衍射(diffraction of X-ray) 8

3.1.1 X射线衍射概述 8

3.1.2 X射线衍射仪应用与功能 9

3.1.3 X射线衍射仪工作原理 9

3.2 综合物性测量系统(Physical Property Measurement System) 10

3.2.1综合物性测量系统概述 10

3.2.2综合物性测量系统本实验中应用 11

3.3原子力显微镜(Atomic Force Microscope) 12

3.3.1原子力显微镜概述 12

3.3.2原子力显微镜原理及构造 12

3.3.3原子力显微镜应用 13

4 结果与讨论 14

4.1晶体结构 14

4.1.1在STO基片上的样品 14

4.1.2在LSAT基片上的样品 18

4.2样品原子表面形貌 19

4.3磁学性能以及电学性能 20

5结论 23

5.1结果讨论 23

5.1.1 样品结构 23

5.1.2 磁学性能 23

5.2未来的工作 24

【参考文献】 25

致谢 26

【Abstract】 27

【Key words】 27